氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的技術(shù)對(duì)比與優(yōu)勢(shì)

發(fā)布時(shí)間：2020-04-26

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宜先氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用QCL + TDLAS技術(shù)，在同樣測(cè)量條件下，檢測(cè)精度可達(dá)ppb級(jí)別。NH3氨逃逸系統(tǒng)采用新型的半導(dǎo)體QC L作為激光源，結(jié)合穩(wěn)定可靠的光路設(shè)計(jì)及信號(hào)處理技術(shù)，使TDLAS光學(xué)傳感技術(shù)達(dá)到理想的精度和穩(wěn)定性，解決了近紅外氨表穩(wěn)定性差、精度不高的現(xiàn)狀，可以充分滿足市場(chǎng)需求。

氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的技術(shù)對(duì)比與優(yōu)勢(shì)

宜先氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用QCL + TDLAS技術(shù)，目標(biāo)譜線是氨分子在中紅外波段強(qiáng)吸收峰。分子光譜學(xué)研究表明，氨分子中紅外吸收譜線比近紅外吸收譜線強(qiáng)數(shù)十倍，在同樣測(cè)量條件下，檢測(cè)精度可達(dá)ppb級(jí)別，是近紅外TDLAS數(shù)十倍。氨逃逸系統(tǒng)采用新型的半導(dǎo)體QCL作為激光源，結(jié)合穩(wěn)定可靠的光路設(shè)計(jì)及信號(hào)處理技術(shù)，使TDLAS光學(xué)傳感技術(shù) 達(dá)到前所未有的精度和穩(wěn)定性，解決了近紅外氨表穩(wěn)定性差、精度不高的現(xiàn)狀，可以充分滿足市場(chǎng)需求。

技術(shù)對(duì)比優(yōu)勢(shì)

技術(shù)對(duì)比	宜先儀器 QCL-TDLAS	近紅外抽取式 TDLAS	原位式TDLAS	紫外差分DOAS （間接測(cè)量）
環(huán)境適應(yīng)性	適應(yīng)高溫、高壓、高濕、高粉塵	水分及其它雜質(zhì)有較大影響	無法長時(shí)間適應(yīng)脫硝惡劣工況條件，受現(xiàn)場(chǎng)振動(dòng)、熱膨脹等影響嚴(yán)重	無法適應(yīng)高溫的脫硝現(xiàn)場(chǎng)惡劣工況
介質(zhì)干擾	不受背景氣體、粉塵及光學(xué)視窗污染干擾	易受背景水汽干擾	易受粉塵干擾	易受背景氣體干擾
檢測(cè)靈敏度	0.01 ppm	1ppm	1ppm	10ppm (NOx)
可靠性	損耗部件成本較低，光路穩(wěn)定，可靠性高	需要長測(cè)量光程，光路不穩(wěn) 定，精密光學(xué) 池易損，可靠性低	粉塵、煙道震動(dòng)對(duì)數(shù)據(jù)穩(wěn) 定性有較大影響,數(shù)據(jù)穩(wěn) 定性差	通過測(cè)量NOx推算NH3濃度，屬間接測(cè)量，數(shù)據(jù)不可靠
維護(hù)及標(biāo)定	維護(hù)方便，標(biāo)定 1~2次/年	維護(hù)方便，標(biāo) 定1~2次/年	無法在線校準(zhǔn)，窗鏡易污染，需定期對(duì)光	維護(hù)方便，標(biāo)定 1~2次/年
耗材	低成本耗材，壽命長	貴重光學(xué)池及鏡片易損	鏡片易受污染	耗材成本較低